Вольфрамовый лист 40х1000х1500 мм ВА в Череповце

Лист ВА подвержен коррозии в разбавленных растворах едкого калия. Вольфрам реагирует с щелочами, образуя растворимые вольфраматы, что приводит к медленной, но постоянной деградации материала, особенно при повышении температуры.

Долгосрочной эксплуатации вольфрамового листа без деградации способствуют условия глубокого вакуума, инертные газовые среды (аргон, гелий) или водородная атмосфера. Отсутствие кислорода, галогенов и других агрессивных химических реагентов критично для сохранения свойств при высоких температурах.

Выбор листа ВА для термоизоляционных барьеров в вакуумных печах определяется его высокой температурой плавления, низким давлением паров и отличными отражательными свойствами для ИК-излучения. Это обеспечивает эффективную теплоизоляцию и минимизирует теплопотери.

Преимущества использования листа ВА в качестве катодов заключаются в его высокой температуре плавления, низкой скорости испарения и стабильной термоэлектронной эмиссии при высоких температурах. Это обеспечивает долгий срок службы катодов и стабильную работу вакуумных приборов.

В высокотехнологичном прототипировании вольфрамовый лист используется для создания функциональных элементов, требующих высокой прочности и стабильности при экстремальных температурах. Это могут быть микронагреватели для датчиков, прототипы компонентов термоядерных реакторов или сверхтонкие мембраны.

Производство вольфрамового листа толщиной 0.3 мм регулируется международными стандартами, такими как ASTM B760. Этот стандарт устанавливает требования к размерам, допускам, химическому составу и механическим свойствам для вольфрамовых плит, листов, полос и фольги.

Толщина 0.05 мм оптимальна для фольги, используемой в качестве источника для вакуумного испарения. Тонкий лист обеспечивает быстрый и равномерный нагрев, эффективное испарение вольфрама для создания тонких пленок, а также минимальную термическую инерцию системы.